TFT Array的设备供应商-最新

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Array制程，核心设备包括沉积设备、曝光设备、显影、蚀刻设备，主要供应商为ULVAC、东京电子、AKT（应用材料子公司）等日本和美国的半导体设备供应商。目前国内相关设备技术较落后，无法切入目前的面板生产线，Array制程设备基本由美日韩企业所垄断。汗！两方面都需要攻关：
一方面是设备的使用、维护掌握吸收（应该说是当前的主要攻关部分）；
一方面是国外设备的国产化。
而Array设备的投入资金在TFT-LCD FPD中占据了绝对的主要部分。
清洗设备
日本：Hitachi High-Technologies, STI, Kaijo, DNS Electronics, Shibaura Mechatronics；
韩国：DMS, KC Tech, SEMES;
PECVD
日本：ULVAC, Tokyo Electron, Wonik IPS;
韩国：Jusung Engineering, SFA Engineering;
美国：AKT, AMAT；
溅射镀膜机
日本：ULVAC,Tokyo Electron,Canon Anelva;
韩国：Avaco, SFA, Iruja;
美国：AKT, AMAT;
涂光阻机
日本:Tokyo Electron, Tokyo   Ohka Kogyo, Toray Engineering, DNS Electronics;
韩国：DMS,KC Tech,Semes;Canon, Nikkon
曝光机
日本：Canon, Nikon;DNS,   Kashiyama, KC Tech
显影设备
日本:Tokyo Electron, DNS   Electronics, Hitachi High-Technologies, STI, Shibaura Mechatronics;
韩国：DMS,KC Tech,   Semes;ENF Tech, Nepes
干刻机
日本：ULVAC,Tokyo Electron,DNS   Electronics;
韩国：Wonik IPS,LIG   ADP;ICD, Invenia, TEL,Wonik,IPS
湿刻机
日本：Hitachi   High-Technologies, STI, Kaijo, DNS Electronics, Shibaura Mechatronics；
韩国：DMS,KC Tech,   SEMES, SFA;
光阻剥离机
Dongjin Semichem／ENF Tech